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Strain and strain relief in Gd(0001) films on Mo(112)

机译:mo(112)上Gd(0001)薄膜的应变和应变消除

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摘要

The electronic structure of strained and unstrained Gd(0001) has been studied with spin-polarized photoemission spectroscopy and spin-polarized inverse photoemission spectroscopy. In this work, we observed that relaxation of the expansively strained in-plane crystal lattice constant, of Gd(0001) on Mo(112), significantly diminishes the differences in the electronic structure from that observed for Gd(0001) grown on W(110). The defects that are incorporated in the Gd films, with increasing film thickness, lead to an in-plane lattice relaxation. Such thickness dependent strain relief results a loss of net polarization for Gd(0001) grown on Mo(112) compared to the relatively unstrained Gd(0001) films grown on W(110).
机译:利用自旋极化光电子能谱和自旋极化逆光电子能谱研究了应变和非应变Gd(0001)的电子结构。在这项工作中,我们观察到Mo(112)上Gd(0001)的扩展应变面内晶格常数的弛豫,显着减小了与W()上生长的Gd(0001)所观察到的电子结构的差异。 110)。随着膜厚度的增加,掺入Gd膜中的缺陷会导致面内晶格弛豫。与在W(110)上生长的相对不应变的Gd(0001)薄膜相比,这种厚度相关的应变消除导致Mo(112)上生长的Gd(0001)的净极化损失。

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